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金屬薄膜方阻測試儀

金屬薄膜方阻測試儀:金屬薄膜方阻,方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關(guān),其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-06-26
  • 訪  問  量:1287
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產(chǎn)品詳情

金屬薄膜方阻,方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關(guān),其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。蒸發(fā)鋁膜、導(dǎo)電漆膜、印制電路板銅箔膜等薄膜狀導(dǎo)電材料,衡量它們厚度的最好方法就是測試它們的方阻。什么是方阻呢?方阻就是方塊電阻,指一個正方形的薄膜導(dǎo)電材料邊到邊“之"間的電阻,如圖一所示,即B邊到C邊的電阻值。方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻射率。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關(guān),其單位為Siements/sq,后增加歐姆/sq表征方式,該單位直接翻譯為方塊電阻或者面電阻,用于膜層測量又稱為膜層電阻。

產(chǎn)品描述:

金屬薄膜方阻測試儀主要利用結(jié)光電壓技術(shù)非接觸測試具有P/N或N/P結(jié)構(gòu)的樣品的方阻(發(fā)射極薄層方阻)。

特點:

非接觸,非損傷測試,測試速度快,重復(fù)性佳,可直接測試產(chǎn)品片。

金屬薄膜方阻測試儀技術(shù)參數(shù):

探頭量程10-500Ω/sq
探頭性能動態(tài)重復(fù)性靜態(tài)重復(fù)性示值誤差
測試條件:采樣率50SPS(20ms),20個點/每次
10-50Ω/sq<2%<0.5%≤±3%
50-200Ω/sq<1%<0.2%≤±3%
200-500Ω/sq<0.6%<0.15%≤±3%
外形尺寸探頭:60mm×30mm×83mm(L×W×H)
控制盒:173×130×55mm
信號采集采樣率:**500SPS
數(shù)據(jù)接口:RS232 RS485 CAN TCP/IP
傳輸協(xié)議:ModbusRtu/ModbusTcp、用戶自定義SOCKET協(xié)議等

JPV測試數(shù)據(jù)

實驗數(shù)據(jù)—相關(guān)性

金屬薄膜方阻測試儀

實驗數(shù)據(jù)—重復(fù)性和準確性


樣片1

樣片2

樣片3

樣片4


四探針

SemiLab

九域

四探針

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四探針

SemiLab

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Ave

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0.82%

-0.15%

說明:

1、四探針重復(fù)性較差,探針頭容易出問題導(dǎo)致測試偏差很大

2、Semilab重復(fù)性和九域重復(fù)性偏差不大

3、準確度偏差都保證在一定的范圍之內(nèi)

 
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